透射电子显微镜(TEM)
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- 应用范围
- 设备规格
- TEM模式对应观测内容
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- 商品名称: 透射电子显微镜(TEM)
TALOS F200E赛默飞世尔科技(Thermo Fisher Scientific)生产的一款高端、200千伏的透射电子显微镜。它不是一个基础型号,而是一个功能强大、高度集成的分析型TEM平台,旨在为材料科学、纳米技术和半导体研究提供高分辨率成像和综合成分分析。
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高解析TEM影像分析

TALOS F200E在最佳条件下,点分辨率可达 <0.25 nm,线分辨率(信息极限)可达 <0.14 nm。这意味着它能够清晰地分辨出大多数晶体材料中小于0.2纳米的晶面间距
高解析TEM/EDS分析

TALOS F200E 中TEM/EDS分析的终极目标结构与成分完美对应,真正的“所见即所得”。
3D V-NAND Flash分析

3D NAND的核心特征是通过堆叠数十甚至上百层器件单元形成的高深宽比结构。制备出的TEM样品通常是一个包含整个堆叠层的“横截面”,其上下层之间的厚度差异显著。
LED磊晶结构分析

LED外延结构(如GaN基蓝光LED、Micro-LED等)对界面质量、材料纯度、缺陷密度和化学成分起伏极为敏感,而F200E正是解决这些问题的利器。
应力分析

TALOS F200E在这方面并非使用传统力学测试方法,而是通过其高分辨成像和衍射能力,提供了一种在纳米甚至原子尺度上进行定量应变测量的强大手段。
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显微结构分析(晶格影像)
结晶缺陷晶格缺陷(Dislocation)分析
元素成分分析
薄膜应力分析
电子绕射图分析
杂质及污染源分析
视频自动量测分析
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影像
Point Resolution: 0.1nm
STEM Resolution: 0.16nmEDS
Detector:4 SDD
Solid angle:0.9其他功能
Piezo stage+DCFI
4K×4K CCD
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HRTEM模式
原子分辨率,直观显示晶格,原子排列、晶体结构
STEM(HAADF)
Z-衬度,易解释,适合联用EDS/EELS,原子序数对比、三维结构
明/暗场像
对晶体缺陷敏感,位错、晶界、沉淀相
NBED
纳米尺度衍射,微小区域的晶体结构
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